|
Наименование параметра и единицы измерения |
Значения |
|
Используемый материал
|
42Н толщиной от 0,1 мм до 0,25 мм 29НК толщиной от 0,1 мм до 0,4 мм М1 толщиной от 0,2 мм до 0,3мм БрБ2 толщиной 0,1 мм |
|
Размер заготовки для фотолитографии, мм |
125×278 |
|
Рабочая зона заготовки, мм |
110×220 |
|
Минимальная ширина проводника, мм |
0,15 |
|
Зазор между проводниками не менее, мм |
0,2 |
|
Диаметр отверстий не менее, мм |
0,5 (0,2 при толщине материала 0,1 мм) |
|
Клин травления, мм |
0,05 |
|
Радиус скругления, мм |
0,2 (измерения не проводили) |
|
Толщина наносимых финишных никель-золотых покрытий, мкм |
Хим.Н (никель химич - 1 min) Хим.Н3 (никель химич - 3 min) Н3 (никель гальв. матовый – 2….4) Нд3 (никель гальв. полублест.– 2….4) Н2Зл1 (никель – 1…3, золото – 1 min) Н2Зл2 (никель – 1…3, золото – 2 min) Н2Зл2,5 (никель – 1…3, золото – 2,5 min) Н2Зл3 (никель – 1…3, золото – 3 min) Н2Зл4 (никель – 1…3, золото – 4 min) Н3Зл3 (никель – 2…4, золото – 3 min)
|
|
Особенности: Возможно изготовление двухуровневых изделий с односторонним травлением. В зависимости от толщины и характеристик используемого материала параметры могут меняться |
|